Absolute Ozone板式臭氧發(fā)生器，無(wú)論您需要用于臭氧水處理的工業(yè)臭氧發(fā)生器、用于工業(yè)的商用臭氧發(fā)生器，還是高級(jí)氧化系統(tǒng)、半導(dǎo)體ALD應(yīng)用，我們都能為您提供完美的解決方案。
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臭氧濃度高
臭氧濃度可達(dá)到300mg/L，是半導(dǎo)體、藥物合成、土壤處理的理想選擇。 -
風(fēng) 冷
在+40C的溫度下也能很好地工 作，無(wú)需支付水，空調(diào)和空調(diào) 系統(tǒng)的費(fèi)用。 -
耐高壓
20-80 PSIG可變壓力模型，是土壤修復(fù)應(yīng)用或無(wú)法達(dá)到穩(wěn)定氧氣壓力的理想選擇。 -
體積小
臭氧產(chǎn)量在30-100g/h范圍內(nèi)的 Absolute Ozone發(fā)生器的尺寸 僅為35.5*38*17.8cm。
探索 ABSOLUTE OZONE? 先進(jìn)的板式臭氧發(fā)生器
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工業(yè)臭氧應(yīng)用
在 Absolute Ozone，我們意識(shí)到在當(dāng)今市場(chǎng)上實(shí)施先進(jìn)技術(shù)的重要性以及它如何使我們的客戶(hù)受益。Absolute Ozone? 臭氧發(fā)生器可以以高達(dá) 350 g/Nm3 的速率和高達(dá) 12%（重量）的濃度轉(zhuǎn)化氧氣。 -
臭氧實(shí)驗(yàn)室和半導(dǎo)體
臭氧氣體具有高反應(yīng)性，可以有效分解多種污染物。在半導(dǎo)體制造中，臭氧氣體用于通過(guò)將硅晶片暴露于基于臭氧的清潔溶液來(lái)去除硅晶片表面的污染物。溶液中的臭氧與污染物發(fā)生反應(yīng)并將其分解，使表面清潔無(wú)雜質(zhì)。 -
臭氧空氣和土壤修復(fù)
從氣味控制到土壤修復(fù)。臭氧技術(shù)可去除空氣中的病毒、細(xì)菌、孢子和許多其他污染物。最近，臭氧已被用于土壤修復(fù)，以清理含有各種土壤污染物的場(chǎng)地。
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Nano 15臭氧發(fā)生器驗(yàn)機(jī)發(fā)貨
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Nano15臭氧發(fā)生器完成維修
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Atlas H30 臭氧發(fā)生器到貨通知
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氧化層生長(zhǎng)臭氧設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)
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TITAN100 臭氧發(fā)生器維修檢測(cè)現(xiàn)場(chǎng)
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Atlas H30 高濃度臭氧發(fā)生器用于分子束延長(zhǎng)mbe
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TITAIN100臭氧發(fā)生器用于化工合成現(xiàn)場(chǎng)
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TITAN H30 機(jī)架式臭氧發(fā)生器調(diào)試現(xiàn)場(chǎng)
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NANO15臭氧發(fā)生器如何使用（視頻）
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Atlas H30與NANO15臭氧發(fā)生器到貨，已經(jīng)過(guò)測(cè)試